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產(chǎn)品介紹：
1.采用微處理器控制系統(tǒng)，磨拋盤轉(zhuǎn)速為：工作盤直徑Φ250mm，50-600r/min（無級調(diào)速），并且可以自由改變旋轉(zhuǎn)方向，從而使本機具有更加廣泛的應(yīng)用性；
2.本機具有雙控制系統(tǒng)，可供兩人同時操作；
3.本機帶有冷卻裝置，可以在研磨拋光時對試樣進行冷卻，以防止因試樣過熱而破壞金相組織；
4.該機使用方便、安全可靠，是工廠、科研單位以及大專院校實驗室的理想制樣設(shè)備。

5. 本磨拋機為臺式雙盤雙控磨拋機，適用于對金相試樣進行粗磨、精磨和拋光操作。

技術(shù)參數(shù)：